در سطح لیتوگرافی، مرحله پختن پلیایمید نقش مهمی در کنترل عرض خطوط روی ویفر ایفا میکند. تغییرات جزئی در دما منجر به اختلال در شکل دیوارههای کناری ویفر میشود؛ همچنین، نقاط داغ باعث افزایش تعداد ذرات روی ویفر میشوند. مرحله پختن باید قابل تکرار، بدون نویز، و سریع باشد؛ این موضوع برای هر دسته از ویفرها صادق است.
چه چیزهایی اهمیت دارند؟ ما این دستگاه پختن پلیایمید را بر اساس یک لامپ مادون قرمز طراحی کردهایم؛ پاسخ این لامپ در محدوده مادون قرمز، با قابلیت جذب پلیایمید همخوانی دارد. انرژی در جایی تخصیص مییابد که فیلم به آن نیاز دارد، بدون اینکه سطح زیرین ویفر آسیب ببیند. این امر منجر به یکنواختی دما در سطح ویفر در حد ±۰.۱ درجه سانتیگراد میشود؛ همچنین، پایداری دما در طول فرآیند تولید نیز حفظ میشود. این لامپ برای استفاده در اتاقهای تمیز کلاس ۱–۱۰۰ طراحی شده است؛ مواد و سیستمهای مورد استفاده نیز به گونهای انتخاب شدهاند که تولید ذرات به صفر برسد. در تولید، این امر منجر به کاهش نوسانات دما، توزیع یکنواختتر خطوط روی ویفر، و بهرهوری پیشبینیپذیر میشود.
چرا این دستگاه مناسب فرآیند تولید است؟ مراحل پختن نرم و سخت پلیایمید، درست در میانه زنجیره حرارتی فوتورزیست قرار دارند. این لامپ میتواند به عنوان جایگزینی مناسب برای لامپهای موجود استفاده شود. شما میتوانید از همان روشهای فرآیندی قبلی استفاده کنید، اما سرعت پختن بالاتر، مصرف انرژی کمتر در هر دسته از ویفرها، و عمر طولانیتر لامپ، از مزایای این دستگاه هستند. این دستگاه بیش از ۵٬۰۰۰ ساعت کار پایدار را تجربه کرده است؛ این موضوع با استانداردهای بینالمللی تجهیزات مطابقت دارد. برای مهندسان، این امر به معنای کاهش کارهای تکراری، کاهش زمان نگهداری تجهیزات، و تکرارپذیری فرآیند پختن است.
جزئیات عملیاتی: نصب این دستگاه ساده است، اما دقت 정렬 بسیار مهم است. لامپ باید در موقعیت خاصی قرار گیرد تا یکنواختی دما حفظ شود. برای تنظیم دقیق پروفایل پختن و بررسی توزیع دما، نیاز به یک فرآیند کوتاه برای راهاندازی دستگاه وجود دارد. پس از تنظیم، میتوان از این دستگاه به عنوان یک متغیر کنترلشده در فرآیند تولید استفاده کرد.