Di area litografi, tingkat repetibilitas proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah hal yang sekadar diinginkan saja—itu merupakan bagian penting dari proses produksi itu sendiri. Perubahan suhu sebesar 2°C selama proses pemanasan akan mempengaruhi akurasi pengukuran dimensi kritis wafer. Selain itu, adanya partikel kecil pun dapat merusak seluruh batch wafer yang diproses. Kami menciptakan lampu inframerah tanpa ozon untuk menghilangkan faktor-faktor yang dapat mempengaruhi kualitas produk.
Yang penting secara teknis: Lampu-lampu ini bekerja menggunakan cahaya inframerah dekat (NIR), tanpa menggunakan ozon. Dengan demikian, tidak diperlukan konverter katalitik dan biaya pemeliharaan yang tinggi. Di area yang disinari oleh lampu ini, keseragaman suhu permukaan wafer tetap stabil pada rentang ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitas antar proses produksi tetap dalam rentang ±0,2°C.
Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100: bahan-bahan yang digunakan memiliki emisi gas yang rendah, jalur optik yang tertutup rapat, serta sistem aliran udara yang mencegah masuknya partikel ke permukaan wafer. Stabilitas keluaran lampu ini kurang dari 1% selama lebih dari 5.000 jam—artinya lampu ini dapat digunakan secara kontinu tanpa perlu kalibrasi berulang-ulang.
Mengapa sistem ini cocok untuk produksi: Proses pemrosesan bahan fotoresist sangat bergantung pada kondisi termalnya. Lampu inframerah kami dapat memanaskan wafer dengan cepat, dan sistem kontrolnya yang ketat memastikan bahwa kondisi termal tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya. Dengan demikian, keseragaman dimensi wafer menjadi lebih baik, jumlah pekerjaan ulang berkurang, sehingga hasil produksi lebih dapat diprediksi.
Karena lampu ini dapat mencapai suhu target dengan cepat dan mempertahankannya tanpa melebihi batas yang ditentukan, penggunaan energi pun berkurang. Jarak waktu penggunaan lampu yang panjang juga mengurangi kebutuhan akan suku cadang dan tenaga ahli untuk pemeliharaan. Pada node produksi yang canggih, kombinasi antara tidak adanya ozon, minimnya pembentukan partikel, serta kontrol suhu yang presisi sangat penting untuk melindungi wafer dan lingkungan alat produksi.
Apa yang perlu dipertimbangkan: Lampu-lampu ini dapat diintegrasikan dengan perangkat semikonduktor standar. Namun, jalur distribusi panas dari alat tersebut perlu diperhatikan dengan seksama. Jika desain pendinginannya tidak tepat, stabilitas jangka panjang alat tersebut akan terganggu.
Lakukan uji coba singkat untuk memastikan bahwa parameter suhu sesuai dengan spesifikasi yang ditentukan. Setelah itu, proses produksi akan berjalan secara prediktif.