Nel processo di litografia, la ripetibilità del riscaldamento del fotoretico non è un elemento “piacevole” da avere: è invece un aspetto fondamentale del processo stesso. Una variazione di 2°C durante il riscaldamento può influire negativamente sul controllo delle dimensioni critiche dei componenti prodotti; inoltre, la presenza di particelle presenti nell’ambiente di lavoro può rovinare un intero lotto di prodotti. Abbiamo progettato queste lampade a infrarossi prive di ozono proprio per eliminare tali variabili indesiderate.
Ciò che conta dal punto di vista tecnico
Queste lampade funzionano con raggi infrarossi vicini al visibile e senza emissioni di ozono; quindi non è necessario utilizzare convertitori catalitici, evitando così problemi legati alla manutenzione. Nell’area illuminata, l’uniformità termica della superficie del wafer rimane entro i ±0,1°C, mentre la ripetibilità tra uno scorrimento e l’altro è compresa tra i ±0,2°C. Il sistema è progettato per essere utilizzato in ambienti di tipo Class 1–100: materiali con bassa emissione di gas, percorsi ottici sigillati e una gestione dell’aria che impedisce alle particelle di raggiungere il wafer. La stabilità della temperatura è inferiore all’1% dopo più di 5.000 ore di funzionamento, il che significa che il sistema può funzionare 24/7 senza alcuna necessità di calibrazione continua.
Perché funziona bene in produzione
Il processo di trattamento del fotoretico dipende completamente dalle condizioni termiche. Le nostre lampade a infrarossi riscaldano il wafer direttamente e rapidamente, grazie a un preciso controllo del ciclo termico, mantenendo così costanti le condizioni termiche da un lotto all’altro. Questo permette di ottenere una maggiore uniformità delle dimensioni dei componenti, riducendo così il numero di ripetute operazioni di lavorazione e aumentando la resa produttiva. Poiché le lampade raggiungono rapidamente il valore desiderato di temperatura senza superarlo, si riduce il consumo di energia. Inoltre, l’intervallo di funzionamento lungo riduce la necessità di ricambi e di manutenzione. Nei processi di produzione avanzati, la combinazione di assenza di ozono, bassa generazione di particelle e controllo preciso della temperatura protegge sia il wafer che l’intero ambiente di lavoro.
Cosa bisogna considerare
Queste lampade sono compatibili con gli standard degli strumenti per semiconduttori, ma è importante tenere conto del carico termico generato dagli stessi. Durante l’installazione è necessario considerare la capacità di dissipazione del calore dello strumento e la direzione del flusso d’aria; altrimenti, la stabilità a lungo termine ne risentirà. È consigliabile effettuare una breve prova di funzionamento per verificare che i parametri di funzionamento siano corretti. Una volta ottenuta questa configurazione ideale, il processo diventa prevedibile.