Pada permukaan litografi tersebut, proses pemanasan poliimida memainkan peranan penting dalam mengawal ketebalan garisan yang dihasilkan. Perubahan suhu sebanyak beberapa darjah akan menyebabkan ketidakteraturan pada dinding sisi wafer. Kawasan yang terlalu panas pula akan menyebabkan peningkatan jumlah zarah pada permukaan wafer. Proses pemanasan ini perlu dilakukan secara konsisten, bersih, dan cepat—untuk setiap kumpulan wafer yang diproses.
Apa yang penting dalam proses ini
Kami menggunakan lampu inframerah untuk proses pemanasan poliimida. Respon cahaya inframerah ini disesuaikan agar sesuai dengan sifat penyerapan poliimida. Tenaga cahaya akan sampai ke tempat yang diperlukan, tanpa merosakkan substrat. Ini memastikan suhu permukaan wafer tetap stabil pada tahap ±0.1°C, dan stabiliti ini dapat dikekalkan sepanjang proses pengeluaran. Lampu ini direka untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan dan komponen yang digunakan dipilih untuk memastikan tiada zarah terbentuk. Dalam proses pengeluaran, ini bermakna kurangnya masalah, pengedaran CD yang lebih tepat, dan hasil yang boleh diramalkan.
Mengapa ia sesuai dengan aliran proses
Proses pemanasan poliimida yang lembut dan keras berada tepat di tengah-tengah proses termal yang digunakan untuk memproses photoresist. Lampu ini boleh digunakan dalam sistem pemanasan yang sudah ada, dan ia merupakan alternatif yang sesuai mengikut standard SEMI. Anda boleh mengekalkan cara proses yang sama, tetapi masa yang diperlukan untuk proses pemanasan menjadi lebih singkat, penggunaan tenaga berkurangan, dan jangka hayat lampu menjadi lebih lama—dengan sokongan prestasi yang stabil selama lebih dari 5,000 jam. Bagi para jurutera, ini bermakna kurangnya kerja pembetulan, waktu penyelenggaraan yang lebih sedikit, dan profil pemanasan yang konsisten dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain.
Butiran praktikal
Proses penyesuaian lampu ini mudah, tetapi toleransi penempatan lampu harus sangat ketat. Lampu perlu diletakkan pada kedudukan yang tepat agar suhu dapat dikawal dengan baik. Proses penyesuaian awal diperlukan untuk memastikan profil pemanasan yang betul dan suhu yang stabil. Setelah itu, proses pemanasan boleh dianggap sebagai proses yang boleh dikawal dengan baik.