Mengapa kita meninggalkan penggunaan ketuhar konveksi dan beralih kepada lampu inframerah berketulenan tinggi
Selama ini, kilang-kilang pengeluar semikonduktor bergantung pada ketuhar konveksi yang besar. Namun sebenarnya, kaedah ini sudah ketinggalan zaman. Kini, terdapat trend yang kuat untuk menggunakan lampu inframerah berketulenan tinggi. Ini bukan sekadar usaha untuk mencapai sasaran tenaga hijau atau mematuhi peraturan yang melarang penggunaan plumbum – ia merupakan pendekatan yang lebih masuk akal.
Fikirkanlah. Sistem udara terpaksa digunakan untuk memanaskan seluruh ruangan agar wafer menjadi kering. Ini merupakan cara yang sia-sia. Lampu UHP pula berbeza; ia menghantar tenaga secara langsung ke permukaan substrat menggunakan radiasi elektromagnetik. Tiada perantara diperlukan.
Prinsip fiziknya sebenarnya sangat mudah.
Apabila menggunakan pengering biasa, tenaga banyak dibazirkan untuk memanaskan dinding dalaman mesin tersebut. Ia sama seperti cuba memanaskan rumah dengan memanaskan jalan masuknya sahaja. Dengan lampu UHP pula, kita hanya perlu menyalakan suisnya, dan permukaan wafer akan menjadi kering dengan cepat. Tidak perlu menunggu mesin “panas”. Ini bermakna penggunaan elektrik untuk setiap wafer menjadi lebih rendah, dan ini tentunya menggembirakan pihak pengurusan kewangan.
Menjaga kebersihan.
Dalam bilik bersih, “pelepasan gas” merupakan masalah utama. Satu zarah kecil di tempat yang salah pun boleh menyebabkan masalah. Itulah sebabnya kami menggunakan kristal kuarsa sintetik berkualiti tinggi serta filamen khas dalam pembuatan lampu ini. Kami memastikan tiada zarah yang terlepas keluar. Apabila kita berbicara tentang “tanpa plumbum”, kita bukan sahaja merujuk kepada lapisan solder pada papan litar, tetapi juga keseluruhan proses pengeluaran. Dengan menggunakan lampu inframerah, kita tidak memerlukan bahan pengering yang menggunakan pelarut berbahaya atau sistem pengudaraan yang boleh membawa pencemar. Permukaan wafer akan tetap bersih dan kering.
Kelemahannya…
Masalahnya adalah lampu ini menghasilkan tenaga yang sangat tinggi dalam ruang yang kecil. Ini bagus untuk memproses lebih banyak wafer, tetapi ia memberi tekanan yang besar pada sistem penyejukan. Jika kita menggunakan lampu UHP berkuasa tinggi tanpa menaik taraf sistem penyejukan, wafer akan menjadi terlalu panas, sehingga menyebabkan ia berbentuk tidak normal. Kita perlu mencari keseimbangan antara kuasa lampu dan kapasiti haba substrat.
Berita baiknya? Kami telah merancang lampu ini agar dapat disambungkan terus ke sistem vakum atau sistem udara sedia ada. Dengan cara ini, kita tidak perlu menggunakan kipas dan pemanas yang menggunakan banyak tenaga. Jejak karbon kita pun akan berkurangan.