Op de lithografieafdeling weet je hoe het werkt: een verschil van een halve graad in de baktemperatuur kan al zorgen voor problemen met de controle van de cruciale dimensies. Dan moet je de wafers weggooien.
We hebben deze heater ontworpen om dit soort problemen te voorkomen, nog voordat ze zich voordoen. Hij wordt gebruikt op het moment dat de chemische eigenschappen van de fotorezyst, de thermische omstandigheden en de oppervlaktespanning perfect op elkaar moeten aansluiten.
Het hart van het apparaat is de heater die ervoor zorgt dat de temperatuur over het hele oppervlak van de wafer constant blijft bij ±0,1°C. De instellingen blijven stabiel, zelfs wanneer het apparaat 24/7 draait.
Het apparaat is compact genoeg om te worden geplaatst in in-line metingssystemen. Het is geschikt voor gebruik in schone kamers en de lage uitstoot van stoffen zorgt voor een constante concentratie aan deeltjes. Er worden geen deeltjes gegenereerd – dit is een kenmerk van het apparaat, dankzij het gesloten thermische systeem dat voorkomt dat er stoffen vrijkomen.
In het logboek kun je zien hoe reproduceerbaar het apparaat is. Elke bak wordt geregistreerd met een nauwkeurige tolerantie, zodat hetzelfde temperatuurprofiel steeds wordt behaald.
Wat betekent dit in de praktijk? Het proces wordt precieziger, er is minder herwerk nodig en er worden minder wafers weggegooid vanwege onvolledige vervorming van de fotorezyst.
De energieverbruik neemt af, omdat de heater snel de gewenste temperatuur bereikt en deze vasthoudt. Ook de onplanbare stilstandtijden nemen af, omdat de thermische stabiliteit voorkomt dat het proces continu in de gaten moet worden gehouden.
Een belangrijk punt: het apparaat presteert het beste wanneer de positie van het apparaat binnen 0,1 mm accuraat is ingesteld en de koelmiddelstroom past bij het werkmoment. Er is een korte inrichtingsperiode nodig om het optimale temperatuurprofiel vast te stellen. Daarna blijft het proces onder controle.