Na área de litografia, todos conhecem bem o problema: uma pequena variação na temperatura de cozedura já é suficiente para que o controle das dimensões críticas deixe de ser eficaz. Em seguida, é preciso descartar os wafers defeituosos.
Criamos este aquecedor para medição da tensão superficial dos wafers, com o objetivo de evitar essas variações antes mesmo que elas ocorram. Ele é utilizado exatamente no momento em que a química do fotorevestimento, as condições térmicas e a energia superficial precisam estar alinhadas dentro de um intervalo aceitável.
O segredo está no fato de que o aquecedor mantém a uniformidade térmica nos wafers em torno de ±0,1°C em toda a superfície de cozedura. A estabilidade do ponto de ajuste permanece constante, mesmo quando o equipamento funciona 24 horas por dia.
O aparelho é compacto o suficiente para ser instalado em estações de medição integradas ao processo. Seu design é compatível com ambientes de clínica limpa, com níveis de classe 1–100. Além disso, os materiais utilizados geram pouquíssimas partículas, evitando assim problemas relacionados à presença de partículas no processo.
A repetibilidade dos resultados pode ser verificada nos registros de dados. Cada ciclo de cozedura é registrado com precisão, garantindo que o mesmo perfil térmico seja obtido a cada vez.
O que isso significa na prática? Os processos de cozedura se tornam mais previsíveis, reduzindo a necessidade de retrabalhos e o desperdício de wafers devido a problemas de cura incompleta do fotorevestimento.
O consumo de energia também diminui, pois o aquecedor atinge rapidamente o ponto de ajuste e o mantém sem excedimentos. Além disso, haja menos paradas não planejadas, já que a estabilidade térmica evita que seja necessário supervisionar constantemente o processo.
Uma observação importante: o equipamento funciona melhor quando a fixação do compartimento de cozedura está alinhada dentro de 0,1 mm, e quando o fluxo de refrigeração está adequado ao ciclo de trabalho. É necessário realizar um período de testes para ajustar corretamente o perfil térmico.
Depois disso, o processo fica completamente sob controle.