İşlem Sürelerini Kısaltmak: Vakum Ortamında Neden Kızılötesi Isıtıcılar Daha İyi?
Eğer yarı iletken üretiminde çalışıyorsanız, en büyük sorunun “zaman maliyeti” olduğunu biliyorsunuzdur.
Çoğu kişi sıcak hava dolaşım sistemleriyle başlar. Bu yöntem işe yarar, ancak oldukça yavaştır. Aslında havayı ısıtıp, bu havanın wafer’i ısıtmasını umuyorsunuz. Ancak buradaki sorun şu: Vakum ortamına geçtiğinizde artık hava yoktur; aracı unsur ortadan kalkmış olur.
İşte bu noktada vakuma uyumlu kızılötesi (IR) ısıtıcılar devreye girer. Bir araca bağlı kalmadan, IR ısıtıcılar enerjiyi doğrudan substrata ileterek ısınmayı sağlar. Bu sayede işlem süreleri dakikalardan saniyelere düşer. Çok hızlıdır. Gerçekten çok hızlı. Ve bu da iş akışınız için her şeyi değiştirir.
Vakum Ortamının Olumsuz Yönleri
Ancak oraya herhangi bir ısıtıcı yerleştiremezsiniz. Standart ısıtıcılar genellikle “gaz salars”. Yüksek vakum ortamında, ısıtıcının üzerindeki küçük miktardaki yağ veya organik bileşenler wafer’i kirletebilir. Bu da istenmeyen bir durumdur.
Bunu önlemek için kuvars kaplamalar ve özel vakum dayanıklı elektrotlar kullanılır. Böylece sızıntılar ve kirler engellenmiş olur.
Unutulmaması gereken bir diğer nokta ise güç yoğunluğudur. Yüksek güçlü IR lambaları, küçük bir alana çok fazla ısı yükler. Eğer odanın soğutma sistemi yeterli değilse, wafer’e ulaşmayan ısı, conta kısımlarını bozabilir. Anahtarı çevirmeden önce teknik özellikleri kontrol edin.
Daha Fazla Wafer İşlenebilmesi
Buradaki asıl avantaj kontrolün kolay olmasıdır. IR ısıtıcıları sayesinde hızlı bir ısı darbesi uygulanabilir, işlem tamamlanıp parça hemen soğutulabilir. Devasa fırınların soğumasını beklemek zorunda kalmazsınız.
Mühendisler için bu, saat başına daha fazla wafer işlenebileceği anlamına gelir. Temelde, konveksiyon yöntemlerinde karşılaşılan o sıkıcı “bekleme sürelerinden” kurtulmuş olursunuz. Basit bir hava üfleyicisinin yerine hassas bir güç kontrol cihazı ve vakumlu bir lamba kullanılır; böylece işlem hızı artar.