Litografi bölümünde bu durumu hepimiz biliyoruz: Isıtma sıcaklığında yarım derecelik bir sapma olursa, kritik boyut kontrolü aniden standartların dışına çıkıyor. Bir süre sonra da waferlerin hepsi atılır.
Bu wafer yüzey gerilimi ölçüm cihazını, bu tür sapmaların başlamasını engellemek için tasarladık. Bu cihaz, fotoresist kimyasalları, termal koşullar ve yüzey enerjisinin tek bir kalitatif ısıtma sürecinde uyumlu hale geldiği anda kullanılır.
Cihazın temel işlevi, wafer yüzeyindeki termal düzenliliği ±0,1°C aralığında korumaktır. Ayarlanan değerler, 24/7 çalıştırıldığında bile sabit kalır.
Cihaz, doğrudan ölçüm istasyonlarına yerleştirilebilecek kadar kompakttır. Temiz oda koşullarına uygun tasarımı sayesinde sınıf 1–100 ortamlarda kullanılabilir. Ayrıca düşük gaz salınımı sağlayan malzemeler sayesinde parçacık miktarı kontrol altında tutulur. Sıfır parçacık üretimi sadece bir pazarlama stratejisi değildir; bu özellik, herhangi bir parçacığın dışarıya çıkmasını engelleyen kapalı termal yapı sayesinde sağlanır.
Veri kayıtlarından da tekrarlanabilirliği görebilirsiniz. Her ısıtma işlemi belirlenen toleranslar dahilinde kaydedilir; böylece her seferinde aynı sıcaklık profili elde edilir.
Peki bu durum sahada ne anlama gelir? Yumuşak ısıtma ve sert ısıtma işlemleri artık tahmine dayalı olmaktan çıkıp kesin sonuçlar verir. Böylece daha iyi bir CD düzenliliği elde edilir, yeniden işleme ihtiyacı azalır ve fotoresistin tam olarak kurumamasından kaynaklanan atıklar da azalır.
Enerji tüketimi de azalır; çünkü cihaz ayarlanan değere hızla ulaşır ve orada sabit kalır. Termal stabilite sayesinde planlanmayan duruşlar da azalır.
Bir montaj notu: Cihaz, odanın donanımının 0,1 mm içinde hizalanması ve soğutucu akışının uygun olması durumunda en iyi performansı gösterir. Fotoresist yapınız için uygun termal profilin elde edilmesi için kısa bir ayar süreci gereklidir. Bundan sonra ise süreç tamamen kontrol altında kalır.