Trong quy trình in ấn bằng phương pháp litografi, bạn chắc hẳn đã biết rõ tầm quan trọng của việc kiểm soát nhiệt độ trong quá trình nung. Chỉ cần nhiệt độ thay đổi khoảng nửa độ, thì việc kiểm soát kích thước các chi tiết được in ra sẽ trở nên không chính xác nữa. Kết quả là các tấm wafer bị hỏng và phải bị vứt bỏ.
Chúng tôi đã chế tạo thiết bị đo áp suất bề mặt của wafer này nhằm ngăn chặn sự thay đổi nhiệt độ ngay từ đầu. Thiết bị này giúp duy trì độ đồng đều về nhiệt độ trên bề mặt wafer ở mức ±0,1°C. Giá trị nhiệt độ được điều chỉnh một cách ổn định, ngay cả khi máy hoạt động 24/7.
Thiết bị này có kích thước nhỏ gọn, có thể được lắp đặt trong các trạm đo lường. Thiết kế của nó phù hợp với môi trường phòng sạch loại 1–100. Các vật liệu được sử dụng ít phát ra khí, giúp giữ cho số lượng hạt bụi ở mức thấp. Việc loại bỏ hoàn toàn hạt bụi không phải là khẩu hiệu quảng cáo – đó là kết quả của thiết kế thông minh, với hệ thống cách nhiệt kín giúp ngăn chặn sự thoát khí.
Bạn có thể thấy tính lặp lại trong các dữ liệu ghi lại. Mỗi lần nung đều được ghi lại với độ chính xác cao, vì vậy mô hình nhiệt độ sẽ luôn ổn định qua từng lần nung.
Vậy điều đó có nghĩa gì trong thực tế sản xuất? Việc kiểm soát nhiệt độ trở nên chính xác hơn, giảm thiểu việc phải tái sản xuất, và giảm lượng wafer bị hỏng do quá trình nung không hoàn chỉnh.
Việc sử dụng năng lượng cũng giảm đi, vì thiết bị có thể đạt được nhiệt độ mong muốn một cách nhanh chóng và duy trì nhiệt độ đó mà không bị sai lệch. Thời gian ngừng máy do vấn đề nhiệt độ cũng giảm đi.
Một lưu ý khi lắp đặt: thiết bị sẽ hoạt động tốt nhất khi các bộ phận trong buồng nung được căn chỉnh chính xác trong khoảng 0,1 mm, và dòng chất lỏng làm mát phải phù hợp với chu kỳ hoạt động của máy. Bạn cần một thời gian ngắn để điều chỉnh các thông số nhiệt độ sao cho phù hợp.
Sau đó, quy trình sản xuất sẽ được kiểm soát một cách hiệu quả.