<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Napětí on Modern Infrared Home Heating</title>
		<link>http://infrared-heat-home.com/cs/tags/nap%C4%9Bt%C3%AD/</link>
		<description>Recent content in Napětí on Modern Infrared Home Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 19:34:56 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infrared-heat-home.com/cs/tags/nap%C4%9Bt%C3%AD/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Zahřívač pro měření povrchového napětí waferu</title>
				<link>http://infrared-heat-home.com/cs/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 19:34:56 +0800</pubDate>
				<guid>http://infrared-heat-home.com/cs/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infrared-heat-home.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Zahřívač pro měření povrchového napětí waferu&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V provozu na litografii znáte ten problém – i půlstoprocentní odchylka v teplotě zpracování může způsobit, že kontrola kritických rozměrů přestane být spolehlivá. V takovém případě musíte zahozenéčky odhodit.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Vytvořili jsme tento zařízení na měření povrchového napětí čipů právě proto, abychom zabránili takovým odchylkám už v jejich počátcích. Slouží právě v té chvíli, kdy chemie fotorezistu, tepelné podmínky a povrchová energie musí být v harmonii během jednoho procesu zpracování.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Jde o to, že tento ohřívač udržuje tepelnou uniformitu na úrovni ±0,1 °C po celé ploše čipu. Hodnota nastavené teploty zůstává stabilní, i když zařízení pracuje non-stop.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
