Aluminiumreflektor für IR Lampe

Thu, 04 Jun 2026 01:12:44 +0800

Auf dem Lithographie-Floor kennen Sie das Prozedere. Eine Temperaturschwankung von 1°C während des Photoresist-Backens reicht aus, um ein komplettes Los auszuschießen. Die Temperaturregelung muss wie ein Sollwert funktionieren, nicht wie eine Unbekannte. Deshalb haben wir den Aluminium-IR-Reflektor für Halbleiter-Heizungen entwickelt, bei denen der Ertrag von der Wiederholgenauigkeit abhängt.

Technisch relevante Aspekte
Wir passen die Geometrie und Oberflächenbeschaffenheit des Reflektors so an, dass eine Gleichmäßigkeit von ±0,1°C über das Wafer erreicht wird, sodass Ihr thermisches Budget während Softbake und Hardbake stabil bleibt. Er ist für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet, und das partikelkontrollierte Design verhindert Kontaminationen im Prozessraum. Die Material- und Beschichtungsstrategie sorgt für niedrige Ausgasung und eine konstante Reflexion über tausende Stunden, sodass die Lampenleistung nicht driftet und die thermische Wiederholgenauigkeit erhalten bleibt.

Aluminium on Modern Infrared Home Heating

Aluminiumreflektor für IR Lampe