Vernetzung von Polyimiden in der Waferfertigung

Sun, 28 Jun 2026 01:57:58 +0800

In der Lithografie ist die Aushärtung des Polyimids nicht einfach nur ein weiterer Heizschritt. Vielmehr bestimmt das thermische Verhalten den Grad der Zuverlässigkeit des Geräts. Eine Abweichung von 1°C auf der Wafer-Oberfläche kann zu Spannungen führen, die wiederum zu Rissen in den Verbindungen zwischen den Komponenten führen können – und somit wöchentags langwierige Arbeiten zunichte machen. Man benötigt daher eine Plattform, die die Temperatur als integralen Bestandteil des Prozesses betrachtet – und nicht erst als etwas, was später berücksichtigt werden muss.

Polyimid Brennlampe für Infrarotstrahlung

Sat, 20 Jun 2026 02:32:11 +0800

Auf der Lithographiefläche ist die Polymid-Behandlung der Punkt, an dem das thermische Budget in eine Steuerung der Linienbreite umgewandelt wird. Einige Grad Abweichung zeigen sich als Verschiebung der Seitenwände. Hotspots zeigen sich wiederum als Anzahl der Partikel auf der Waferoberfläche. Der Behandlungsprozess muss immer wiederholt werden können – und zwar sauber sowie schnell, in jedem einzelnen Produktionslot.

Was wirklich wichtig ist Wir haben diese Polymid-Behandlung um eine Infrarotlampe herum konzipiert. Die NIR-Antwort dieser Lampe entspricht genau der Absorptionseigenschaft des Polymids. Die Energie gelangt genau dorthin, wo sie benötigt wird – ohne dass das Substrat beschädigt wird. Dadurch wird eine Temperaturhomogenität von ±0,1°C über die gesamte Behandlungsoberfläche erreicht. Zudem bleibt die Temperatur stabil, auch über längere Zeit hinweg. Die Lampe ist für den Einsatz in Reinräumen der Klasse 1–100 konzipiert; die verwendeten Materialien und Dichtungen sorgen dafür, dass keine Partikel entstehen. In der Produktion bedeutet das weniger Fehler, eine bessere Verteilung der Eigenschaften der Wafer sowie eine vorhersehbare Ausbeute.

Polyimid on Modern Infrared Home Heating

Vernetzung von Polyimiden in der Waferfertigung

Polyimid Brennlampe für Infrarotstrahlung