<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Spannung on Modern Infrared Home Heating</title>
		<link>http://infrared-heat-home.com/de/tags/spannung/</link>
		<description>Recent content in Spannung on Modern Infrared Home Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>de</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 19:34:56 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infrared-heat-home.com/de/tags/spannung/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Heizeelement zur Messung der Oberflächenspannung von Wafern</title>
				<link>http://infrared-heat-home.com/de/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 19:34:56 +0800</pubDate>
				<guid>http://infrared-heat-home.com/de/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infrared-heat-home.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Heizeelement zur Messung der Oberflächenspannung von Wafern&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Im Bereich der Lithografie kennen Sie das Problem sicherlich: Eine Abweichung von einem halben Grad bei der Backtemperatur führt dazu, dass die Kontrolle über die kritischen &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Abmessungen&lt;/a&gt; nicht mehr gewährleistet ist. Dadurch müssen die Wafer entsorgt werden.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Wir haben diesen Heizer zur Messung der Oberflächenspannung der Wafer entwickelt, um solche Abweichungen bereits im Vorfeld zu verhindern. Er kommt genau dann zum Einsatz, wenn chemische Prozesse, thermische Bedingungen und Oberflächenenergie perfekt aufeinander abgestimmt sein müssen – innerhalb eines bestimmten Zeitraums während des Backvorgangs.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
