Usine industrielle de chauffeuses de plaquettes

Mon, 08 Jun 2026 03:00:06 +0800

Sur le plancher de production, une dérive de 0,3 °C lors du séchage du photoresist peut se transformer en une variation de largeur de ligne qui compromet un lot entier. Dans la fabrication de wafers à grande échelle, le contrôle thermique n’est pas un luxe — c’est la limite entre obtenir du rendement et générer des rebuts.

Ce qui compte en interne

Nous concevons des chauffages pour wafers adaptés aux contraintes de la production, garantissant une performance thermique répétable conforme aux fenêtres de procédé des semi-conducteurs. Sur toute la surface du chuck, nous visons une uniformité au niveau du wafer de ±0,1 °C, et la stabilité du point de consigne reste constante entre le soft bake et le hard bake.
Le design utilise un rayonnement infrarouge à ondes courtes ou moyennes avec composants en quartz afin de minimiser la génération de particules et le dégazage. La compatibilité salle blanche couvre les classes 1 à 100. La disponibilité 24/7 est assurée avec un MTBF de plusieurs dizaines de milliers d’heures, et la maintenance repose sur des interventions préventives planifiées, sans dépannage d’urgence.

Chauffage par wafer en silicium photovoltaïque

Tue, 02 Jun 2026 04:07:27 +0800

Sur la ligne, le rendement des plaquettes photovoltaïques dépend entièrement d’un contrôle thermique fiable. Une dérive de température de quelques degrés lors du préchauffage doux, ou un séchage inégal après nettoyage, et le rendement s’effondre. Nous avons conçu nos chauffages pour plaquettes de silicium photovoltaïques afin de maintenir ces étapes dans la plage définie, à chaque poste de travail.

Ce qui compte dans le détail
Nous utilisons un infrarouge à ondes courtes avec une réponse rapide et une uniformité rigoureuse, garantissant ±0,1°C sur la plaquette à température de process. La matrice d’émetteurs et la conception à base de quartz sont conçues pour les salles blanches Class 1–100, sans génération de particules et avec un faible dégazage. Vous obtenez une montée en température répétable, un maintien contrôlé, et un refroidissement rapide, de sorte que le budget thermique reste conforme pour le préchauffage doux, le durcissage et le séchage des plaquettes. La puissance peut être ajustée en fonction de la vitesse de ligne et de la taille des plaquettes, et l’interface est prévue pour une intégration directe dans les équipements standards du semi-conducteur.

Galette on Modern Infrared Home Heating

Usine industrielle de chauffeuses de plaquettes

Ce qui compte en interne

Chauffage par wafer en silicium photovoltaïque