उपचार/ठीक करना on Modern Infrared Home Heating

वेफर क्यूरिंग लैंप हेतु रिफ्लेक्टर

Fri, 17 Jul 2026 02:18:01 +0800

अपने हीटिंग स्रोतों की गर्मी को हर जगह फैलने से रोकें।

आईआर लैंपों की समस्या यह है कि वे गर्मी को हर दिशा में फैलाते हैं। सेमीकंडक्टर उत्पादन प्रक्रिया में, वह ऊर्जा जो वेफर पर नहीं पड़ती, व्यर्थ ही चली जाती है।
लेकिन यह सिर्फ ऊर्जा का दुरुपयोग ही नहीं है… वह अतिरिक्त गर्मी मशीन की आंतरिक दीवारों को नुकसान पहुँचाती है। यदि मशीन का केस इतना गर्म हो जाए कि कोई व्यक्ति घायल हो जाए, तो यह हीटिंग समस्या नहीं, बल्कि दिशा-संबंधी समस्या है।

प्रमाणित इन्फ्रारेड क्यूरिंग लैंप निर्माण संयंत्र

Sun, 12 Jul 2026 06:11:04 +0800

आधुनिक चिपों के लिए इन्फ्रारेड तकनीक ही सबसे उपयुक्त क्यों है?
चिप उद्योग पर “सीसा-मुक्त” एवं “कार्बन-तटस्थ” उत्पादन हेतु बहुत दबाव है। अधिकांश कारखानों में अभी भी पुरानी तकनीकों का उपयोग किया जा रहा है; लेकिन ऐसी तकनीकों में बहुत ऊर्जा खर्च होती है। यह धीमी प्रक्रिया है, एवं इससे ऊर्जा की बर्बादी होती है।
इसीलिए हमने प्रमाणित इन्फ्रारेड लैंपों का उपयोग शुरू किया। इन लैंपों में ऊर्जा सीधे सब्सट्रेट तक पहुँचती है… बीच में कोई मध्यस्थ नहीं होता, इसलिए ऊर्जा की बर्बादी नहीं होती।
वास्तविक लाभ तो गति ही है।
बड़े ओवनों को गर्म होने में बहुत समय लगता है… लेकिन इन्फ्रारेड लैंपों में तो कुछ ही सेकंडों में आवश्यक तापमान प्राप्त हो जाता है। चूँकि ये लैंप विशिष्ट रेजिनों/चिपकने वाले पदार्थों पर ही ऊर्जा लगाते हैं, इसलिए ऊर्जा की बर्बादी नहीं होती। इससे फर्श पर जगह की बचत होती है, एवं प्रति वेफर पर खर्च होने वाली ऊर्जा भी कम हो जाती है।
“हरित” मानकों का ध्यान रखना आवश्यक है।
यदि आप सीसा-मुक्त सोल्डर/चिपकने वाले पदार्थों का उपयोग कर रहे हैं, तो आपको पता होगा कि ऐसे पदार्थों को सही तापमान पर ही गर्म करना आवश्यक है… अन्यथा उत्पादों में खराबी आ जाती है।
हम अपने लैंपों को विशिष्ट तरंगदैर्घ्यों पर सेट करते हैं… इससे आप ऊर्जा के प्रवाह को नियंत्रित कर सकते हैं। आपको ऐसी समस्याओं की चिंता करने की आवश्यकता नहीं है। इसके अलावा, यह एक स्वच्छ प्रक्रिया है… कोई दहन गैसें नहीं, कोई VOC नहीं… सिर्फ स्वच्छ ऊर्जा ही।
कुछ बातों का ध्यान रखना आवश्यक है…
यह कोई जादू नहीं है… उच्च-तीव्रता वाले इन्फ्रारेड लैंपों से बहुत अधिक ऊर्जा उत्पन्न होती है… यदि आप चक्र को छोटा करने हेतु ऊर्जा की मात्रा बढ़ाते हैं, तो आपको यह सुनिश्चित करना होगा कि कूलिंग फैन एवं हीट सिंक उस ऊर्जा को संभाल सकें… अन्यथा उत्पादों में खराबी आ जाएगी।
आपको “शॉक” फैक्टर का भी ध्यान रखना होगा… बहुत अधिक ऊर्जा डालने से संवेदनशील सब्सट्रेटों में खराबी आ सकती है।
सफलता हेतु ऊर्जा को धीरे-धीरे ही बढ़ाना आवश्यक है… थर्मल ग्रेडिएंट को स्थिर रखना आवश्यक है… ऐसा करने से हर बार उत्पाद बेहतरीन ही आएँगे।

वेफर निर्माण हेतु पॉलीइमाइड का उपयोग

Sun, 28 Jun 2026 01:57:58 +0800

लिथोग्राफी प्रक्रिया में, पॉलीइमाइड को सही तरीके से सुखाना कोई साधारण तापन प्रक्रिया नहीं है; बल्कि यही तापमान उपकरणों की विश्वसनीयता का निर्धारण करता है। वेफर में 1°C का भी अंतर, तनाव पैदा कर सकता है, इंटरकनेक्ट्स को नष्ट कर सकता है, एवं हफ्तों की मेहनत को बर्बाद कर सकता है। ऐसी प्रणाली की आवश्यकता है जो तापमान को प्रक्रिया का ही हिस्सा माने, न कि कोई अतिरिक्त चीज़।

प्रक्रिया के दौरान क्या महत्वपूर्ण है?
हमने इस प्रणाली को ±0.1°C की स्थिरता के आधार पर विकसित किया है; इसकी जाँच पूरे वेफर पर सेंसरों के माध्यम से की गई है – न कि चेंबर के औसत मानों के आधार पर। हीटर में क्वार्ट्ज-आधारित डिज़ाइन का उपयोग किया गया है, ताकि तापमान तेज़ी से एवं नियंत्रित तरीके से बढ़ सके। इससे पॉलीइमाइड सही तरीके से सुखाया जा सकता है, बिना किसी तापीय देरी या अतिरिक्त तापमान के।