वेफर की सतही तनाव मापन हीटर

Mon, 22 Jun 2026 19:34:56 +0800

लिथोग्राफी प्रक्रिया में, बेकिंग तापमान में आधे डिग्री का भी अंतर होने से क्रिटिकल डाइमेंशन कंट्रोल खराब हो जाता है। ऐसी स्थिति में वेफरों को फेंकना ही पड़ता है।
हमने ऐसा ही उपकरण बनाया है, ताकि ऐसी स्थितियाँ ही न आएँ। यह उसी क्षण के लिए है, जब फोटोरेसिस्ट की रासायनिक प्रक्रियाएँ, ऊष्मा-संबंधी परिस्थितियाँ, एवं सतही ऊर्जा एक ही स्तर पर होनी आवश्यक हैं।
इस उपकरण का मुख्य उद्देश्य, बेकिंग के दौरान वेफर की सतह पर तापमान को ±0.1°C के भीतर ही रखना है। सेटपॉइंट स्थिर रहता है, चाहे 24/7 ही काम किया जाए।
यह उपकरण इतना छोटा है कि इसे इन-लाइन मापन स्टेशनों में भी इस्तेमाल किया जा सकता है। यह क्लीनरूम-अनुकूल डिज़ाइन वाला है; इसके उपयोग से कणों की संख्या नियंत्रित रहती है। “शून्य कणों का उत्पादन” कोई मार्केटिंग वाक्य नहीं है – यह तो डिज़ाइन का ही हिस्सा है… सील्ड थर्मल स्टैक के कारण कोई कण बाहर नहीं आता।
डेटा लॉग में भी इसकी पुनरावृत्ति देखी जा सकती है… हर बार एक ही तापमान प्राप्त होता है।
तो इसका मतलब क्या है? “सॉफ्ट बेक” एवं “हार्ड बेक” प्रक्रियाएँ अब अनुमानों पर आधारित नहीं रह जातीं… CD की एकरूपता बढ़ जाती है, पुनः कार्य करने की आवश्यकता कम हो जाती है, एवं रिसिस्ट रीफ्लो/अपूर्ण क्यूरिंग के कारण होने वाला नुकसान भी कम हो जाता है।
ऊर्जा-उपयोग भी कम हो जाता है… क्योंकि उपकरण जल्दी ही सेटपॉइंट तक पहुँच जाता है, एवं वहाँ ही रहता है। अप्रत्याशित रुकावटें भी कम हो जाती हैं… क्योंकि थर्मल स्थिरता के कारण ऑपरेशन में कोई बाधा नहीं आती।
एक बात ध्यान रखें… जब चेंबर का फिक्सचर 0.1 मिमी के भीतर ही हो, एवं कूलेंट का प्रवाह उचित हो, तब ही यह उपकरण सबसे अच्छा काम करता है। थर्मल प्रोफाइल को स्थिर करने हेतु थोड़ा समय आवश्यक है… उसके बाद तो प्रक्रिया हमेशा ही नियंत्रण में ही रहती है।

मापन on Modern Infrared Home Heating

वेफर की सतही तनाव मापन हीटर