Sistem fabrikasi inframerah industri khusus

Wed, 10 Jun 2026 02:09:22 +0800

Out on the fab floor, Anda belajar untuk memperlakukan drift suhu dalam proses photoresist seperti musuh lama. Soft bake pada 90°C dengan ±3°C variasi di seluruh wafer? Sebarannya seperti itu menggeser bias dimensi kritis dan meninggalkan edge bead yang akan menyebabkan masalah ulang di kemudian hari. Oleh karena itu kami membangun sistem fab infrared industri khusus untuk menghilangkan ketidakpastian tersebut—memberikan pemanasan yang dapat diulang tepat di tempat proses membutuhkan, tanpa pergerakan udara dan tanpa menambah partikel.

Pabrik pemanas wafer industri

Mon, 08 Jun 2026 03:00:06 +0800

Di lantai fab, drift 0,3°C dalam pemanggangan photoresist dapat berubah menjadi penyimpangan garis pola yang menyebabkan seluruh lot terbuang. Dalam produksi wafer volume tinggi, kontrol termal bukan sekadar pelengkap—ini merupakan batas antara menghasilkan yield dan produk cacat.

Apa yang penting di balik sistem

Kami merancang pemanas wafer sesuai dengan realitas produksi, dengan performa suhu yang dapat direproduksi dan sesuai dengan jendela proses semikonduktor. Di seluruh chuck, kami menargetkan uniformitas suhu wafer sebesar ±0,1°C, dan stabilitas setpoint tetap ketat selama proses soft bake dan hard bake.

Industri on Modern Infrared Home Heating

Sistem fabrikasi inframerah industri khusus

Pabrik pemanas wafer industri

Apa yang penting di balik sistem