<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Keselamatan on Modern Infrared Home Heating</title>
		<link>http://infrared-heat-home.com/ms/tags/keselamatan/</link>
		<description>Recent content in Keselamatan on Modern Infrared Home Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 23 Jul 2026 09:42:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infrared-heat-home.com/ms/tags/keselamatan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer</title>
				<link>http://infrared-heat-home.com/ms/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Thu, 23 Jul 2026 09:42:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://infrared-heat-home.com/ms/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infrared-heat-home.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;hentikan-pembaziran-masa-mengapa-pemanasan-inframerah-lebih-baik-daripada-penggunaan-udara-panas-untuk-memanaskan-wafer&#34;&gt;Hentikan pembaziran masa: Mengapa pemanasan inframerah lebih baik daripada penggunaan udara panas untuk memanaskan wafer&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;Mari kita bicarakan tentang masalah yang timbul akibat proses menunggu yang lama. Dalam proses pemprosesan semikonduktor, kita telah menggunakan kaedah pemanasan udara panas selama bertahun-tahun. Namun, masalahnya ialah udara panas bergerak dengan perlahan. Ia memerlukan medium tertentu untuk bergerak. Kita perlu memanaskan bilik tersebut terlebih dahulu, kemudian udara di dalam bilik tersebut, dan barulah wafer dapat dipanaskan. Ini merupakan proses yang rumit.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
