<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Ketegangan on Modern Infrared Home Heating</title>
		<link>http://infrared-heat-home.com/ms/tags/ketegangan/</link>
		<description>Recent content in Ketegangan on Modern Infrared Home Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 19:34:56 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infrared-heat-home.com/ms/tags/ketegangan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk mengukur tegangan permukaan wafer</title>
				<link>http://infrared-heat-home.com/ms/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 19:34:56 +0800</pubDate>
				<guid>http://infrared-heat-home.com/ms/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infrared-heat-home.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk mengukur tegangan permukaan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik litografi, kita tahu betapa pentingnya kawalan suhu semasa proses pembakaran wafer. Sebarang perubahan suhu sebanyak setengah darjah sahaja sudah cukup untuk merosakkan kawalan dimensi kritikal wafer tersebut. Akibatnya, wafer tersebut akan terpaksa dibuang.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami mencipta alat pengukur tegangan permukaan wafer ini untuk mengelakkan perubahan suhu tersebut sebelum ia berlaku. Alat ini digunakan pada saat-saat genting di mana kimia bahan fotorezist, faktor haba, dan tenaga permukaan perlu diselaraskan dalam satu julat suhu yang tetap.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
