Op de fabrieksvloer kan één fout tijdens de soft bake een volledige lithografieshift doen mislukken. Als de drooglamp minder presteert, verschuiven de profielen van de photoresist en daalt de opbrengst. We hebben deze wafer-drooglamp samengesteld om dat risico te minimaliseren — waarbij de thermische controle binnen specificaties blijft, zonder het budget te overschrijden.
Wat er onder de motorkap belangrijk is
Het betreft een kwarts-halogeenspot, afgestemd op kortegolfemissie voor snelle, gecontroleerde verwarming. De temperatuuruniformiteit over de wafer blijft binnen ±0,1°C, wat helpt kritische photoresist-afmetingen te beschermen tijdens soft bake en hard bake. Nul deeltjesemissie zorgt dat u binnen cleanroomklassen 1–100 blijft. De filament- en omhullingsgeometrie zijn ontworpen voor stabiele output gedurende meer dan 5.000 uren, met een herhaalbaarheid die intensiteitsdrift onder 5% houdt.
Dit is waarom het standhoudt in echte procesomstandigheden.
Fotolithografie en verwerking van photoresist vereisen een consistente thermische budgettering — zonder uitzondering. Deze lamp houdt het bake-profiel stabiel, waardoor lijnbreedtevariaties afnemen en u minder tijd kwijt bent aan het herwerken van batches. De opwarmtijd is kort, wat de cyclustijd verkort, en de lange levensduur betekent minder vervangingen. Het energieverbruik is teruggebracht om binnen de doeltemperatuurbereik te blijven, waardoor de operationele kosten dalen zonder in te leveren op precisie.
Enkele praktische opmerkingen.
De installatie komt neer op het afstemmen van het type fitting en de nominale spanning op uw machine; de verkeerde connector kan uitlijning en thermische koppeling verstoren. De lamp is geschikt voor Class 1–100 cleanrooms, maar is gevoelig voor mechanische schokken — behandel deze volgens ESD-veiligheidsprocedures. Verwacht een korte opwarmfase voordat de setpointstabiliteit is bereikt en controleer uw procesrecept dubbel tegen het emissiespectrum van de lamp om compatibiliteit met photoresist te waarborgen.