Lâmpada infravermelha sem ozônio

Fri, 26 Jun 2026 01:51:35 +0800

No processo de litografia, a repetibilidade no cozimento do fotoresist não é algo opcional – é parte essencial do processo. Uma variação de 2°C durante o cozimento pode afetar significativamente o controle das dimensões críticas do wafer. Além disso, a presença de partículas pode comprometer todo um lote de produtos. Por isso, desenvolvemos lâmpadas infravermelhas sem ozônio, para eliminar essas variáveis do processo.

O que é importante, tecnicamente
Essas lâmpadas operam no regime de infravermelho próximo, sem emissão de ozônio. Isso permite que se evite o uso de conversores catalíticos e os problemas de manutenção associados a eles. Na área iluminada, a uniformidade térmica do wafer fica entre ±0,1°C, e a repetibilidade entre diferentes ciclos de processamento fica entre ±0,2°C.

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Lâmpada infravermelha sem ozônio