Nhà máy lò sưởi wafer công nghiệp

Mon, 08 Jun 2026 03:00:06 +0800

Trên sàn sản xuất, lệch nhiệt 0,3°C trong quá trình nung photoresist có thể dẫn đến sai lệch chiều rộng đường kẻ, làm hư hại toàn bộ lô sản xuất. Trong sản xuất wafer quy mô lớn, kiểm soát nhiệt không phải là điều tùy chọn mà là ranh giới giữa việc tạo ra sản phẩm đạt yêu cầu và phế phẩm.

Điều quan trọng bên trong

Chúng tôi thiết kế bộ nung wafer phù hợp với thực tế sản xuất, dựa trên hiệu suất nhiệt có thể lặp lại trong phạm vi quy trình bán dẫn. Trên toàn bộ chuck, chúng tôi nhắm đến độ đồng đều nhiệt ở mức ±0,1°C cho từng wafer, đồng thời đảm bảo độ ổn định của nhiệt độ đặt trong suốt giai đoạn soft bake và hard bake.
Thiết kế sử dụng hồng ngoại bước sóng ngắn hoặc trung bình cùng với các thành phần thạch anh nhằm giữ mức sinh hạt và thoát khí thấp. Tương thích với phòng sạch từ Class 1 đến Class 100. Hệ thống đảm bảo thời gian hoạt động liên tục 24/7 với MTBF hàng chục nghìn giờ, và dịch vụ bảo trì dự phòng có kế hoạch thay vì sửa chữa khẩn cấp.

Bánh Wafer on Modern Infrared Home Heating

Nhà máy lò sưởi wafer công nghiệp

Điều quan trọng bên trong