Im Bereich der Lithografie ist die Wiederholgenauigkeit bei der Erhitzung des Fotorezists keine zusätzliche Eigenschaft – sie ist vielmehr ein entscheidender Bestandteil des Prozesses. Eine Abweichung von 2 °C während der Weich- oder Härterhitzung kann dazu führen, dass die Kontrolle über die kritischen Abmessungen beeinträchtigt wird. Zudem kann bereits ein einziger Partikel den gesamten Produktionslot ruinieren. Deshalb haben wir Infrarotlampen ohne Ozon entwickelt, um diese Probleme auszuschließen.
Was technisch wichtig ist: Diese Lampen arbeiten im Nahinfrarotbereich und ohne Ozongenerierung. Dadurch entfällt die Notwendigkeit für einen Katalysator sowie die damit verbundenen Wartungsarbeiten. Im beleuchteten Bereich bleibt die thermische Homogenität der Waferoberfläche bei ±0,1 °C, und die Wiederholgenauigkeit zwischen verschiedenen Chargen liegt bei ±0,2 °C.
Das System ist für Reinräume der Klasse 1–100 konzipiert: Es werden Materialien mit geringer Gasemission verwendet, die optischen Wege sind geschlossen, und die Luftstromführung sorgt dafür, dass Partikel nicht auf die Wafer gelangen. Die Stabilität der Leistung liegt bei weniger als 1 % über 5.000 Stunden – das bedeutet, dass das System auch bei 24/7-Produktion ohne ständige Kalibrierung funktioniert.
Warum es in der Produktion funktioniert: Die Verarbeitung des Fotorezists hängt stark von der Wärmeverteilung ab. Unsere Infrarotlampen heizen die Wafer direkt und schnell auf – dabei wird eine präzise Steuerung gewährleistet, sodass die Wärmeverteilung von Charge zu Charge konstant bleibt. Dadurch wird die Homogenität der Waferoberfläche verbessert, es gibt weniger Nacharbeiten, und die Ausbeute ist vorhersehbar.
Da die Lampen schnell die Zieltemperatur erreichen und diese auch halten, sinkt der Energieverbrauch. Der lange Betriebszyklus reduziert außerdem den Bedarf an Ersatzteilen und Wartungsarbeiten. Bei fortgeschrittenen Fertigungstechnologien schützt die Kombination aus keinem Ozon, geringer Partikelbildung und präziser Temperaturregelung sowohl die Wafer als auch die Umgebung der Maschinen.
Was Sie berücksichtigen müssen: Diese Lampen integrieren sich in die Standardschnittstellen der Halbleiterproduktionsanlagen. Doch die Wärmeableitung der Maschine sowie die Airflow-Anordnung spielen eine wichtige Rolle. Bei der Installation muss darauf geachtet werden, dass die Kühlung richtig funktioniert – andernfalls leidet die Langzeittestabilität.
Führen Sie einen kurzen Testlauf durch, um zu überprüfen, ob die Lampen die richtige Temperatur erreichen. Wenn die Ausrichtung stimmt, ist der Prozess vorhersehbar.