در فرآیند لیتوگرافی، میدانید که حتی اختلاف نیم درجهای در دمای پخت، میتواند باعث اختلال در کنترل ابعاد مهم قطعات شود. در چنین شرایطی، مجبور میشویم ویفرها را از بین ببریم.
ما این دستگاه اندازهگیری تنش سطحی ویفر را طراحی کردهایم تا از ایجاد چنین اختلالاتی جلوگیری کند. این دستگاه در همان لحظهای کاربرد دارد که شرایط شیمیایی فوتورزیست، دمای محیط و انرژی سطحی باید در یک بازه زمانی مشخص هماهنگ شوند.
نکته کلیدی این است که این دستگاه، یکنواختی دمایی ویفر را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ میکند؛ حتی در صورت کار ۲۴/۷، این یکنواختی حفظ میشود.
این دستگاه به اندازه کافی کوچک است تا بتوان آن را در ایستگاههای اندازهگیری قرار داد. طراحی آن مناسب اتاقهای پاک است و مواد استفاده شده نیز باعث کاهش تولید ذرات میشوند. عدم تولید هیچ ذرهای، یک ویژگی مهندسی شده است؛ چرا که ساختار حرارتی این دستگاه از تخلیه ذرات جلوگیری میکند.
همچنین، میتوانید یکنواختی فرآیند را در گزارشات دادهها مشاهده کنید؛ هر بار پخت، در محدوده تحمل مشخصی ثبت میشود، بنابراین همان الگوی دمایی در هر بار پخت تکرار میشود.
پس این موضوع چه تأثیری بر فرآیند دارد؟ فرآیند پخت، از یک روش تخمینی به یک روش قطعی تبدیل میشود. یکنواختی ابعاد قطعات بهتر میشود، تعداد قطعاتی که نیاز به تعمیر دارند کاهش مییابد، و مقدار زائدات ناشی از فرآیندهای پخت کمتر میشود.
مصرف انرژی نیز کاهش مییابد؛ زیرا دستگاه به سرعت به دمای مورد نظر میرسد و آن را حفظ میکند. همچنین، زمان توقف غیرمنتظره فرآیند نیز کاهش مییابد؛ چرا که یکنواختی حرارتی، نیاز به نظارت مداوم را کاهش میدهد.
نکته مهمی در مورد نصب این دستگاه این است که عملکرد بهتری خواهد داشت، اگر تجهیزات موجود در اتاق، در فاصله ۰.۱ میلیمتری یکدیگر قرار داشته باشند و جریان سرما نیز با سرعت لازم مطابقت داشته باشد. انتظار داشته باشید که برای تنظیم الگوی حرارتی، نیاز به یک فرآیند کوتاه باشد.
پس از آن، فرآیند به طور مداوم تحت کنترل خواهد بود.