Comment maintenir vos wafer MEMS propres pendant le processus de séchage
Si vous travaillez dans une salle propre de classe 100, vous connaissez bien ce cauchemar : une petite particule issue d’un élément de chauffage suffit pour rendre tout votre lot de wafer inutilisable. C’est frustrant. C’est pourquoi nous utilisons des lampes à infrarouges en quartz synthétique de haute pureté.
La plupart des éléments de chauffage émettent des gaz ou se détériorent avec le temps. Ces tubes en quartz ne présentent pas ce problème. Ils fournissent une chaleur intense nécessaire pour sécher les wafer rapidement, sans laisser de résidus métalliques derrière eux.
Pourquoi le quartz est efficace
Nous choisissons les ondes infrarouges à courte longueur d’onde pour une raison précise : elles permettent de pénétrer plus rapidement l’humidité présente à la surface des wafer que les ondes à longue longueur d’onde. Comme le quartz est très pur, il n’y a pas de risque que des ions se déplacent vers les capteurs MEMS. De plus, l’enveloppe en quartz agit comme un sceau hermétique, empêchant le filament en tungstène de être en contact avec l’air de la salle propre. Nous évitons donc l’utilisation de verre bon marché, car celui-ci ne peut pas résister aux contraintes exercées lors du fonctionnement intensif de la lampe.
Efficacité dans un espace restreint
Ces lampes produisent beaucoup de puissance par pouce carré. L’avantage ? Vous pouvez réduire la taille de l’équipement de chauffage tout en conservant une chaleur suffisante pour faire évaporer les liquides instantanément. Elles s’intègrent également bien avec les contrôleurs PID existants, permettant ainsi de maintenir la température exacte souhaitée.
Précautions à prendre
Comme la densité thermique est très élevée, la surface de la lampe devient très chaude rapidement. Si le boîtier n’est pas conçu pour supporter des flux d’air à haute température, cela peut provoquer des déformations du châssis ou activer les capteurs de surchauffe. Il convient donc de faire attention lors de l’installation.
Séchage en conditions réelles
Ces lampes ont été conçues pour remplacer directement les systèmes automatiques de traitement des wafer. Elles chauffent uniformément toute la surface du wafer, ce qui évite les zones froides ainsi que les marques d’eau ou les résidus indésirables.
Et le meilleur ? Aucun air chaud forcé ne souffle sur le wafer. Vous n’avez donc pas à gérer les turbulences qui provoquent généralement l’envol des particules depuis les bords du wafer. Vous obtenez ainsi une surface sèche et un wafer vraiment propre.