Mempertahankan Kebersihan Wafer MEMS Selama Proses Pengeringan
Jika Anda bekerja di ruang bersih kelas 100, Anda pasti tahu betapa menyebalkannya situasi ini: sedikit sekali debu yang berasal dari pemanas saja sudah cukup untuk merusak seluruh wafer yang ada. Itu sangat menjengkelkan. Itulah sebabnya kami menggunakan lampu inframerah berbahan kuarsa sintetis berkualitas tinggi.
Sebagian besar elemen pemanas akan mengeluarkan gas atau mulai mengelupas seiring waktu. Namun, tabung kuarsa ini tidak memiliki masalah tersebut. Tabung kuarsa ini mampu memberikan panas yang cepat kepada wafer, sehingga wafer dapat dikeringkan dengan cepat, tanpa meninggalkan sisa-sisa logam di permukaannya.
Mengapa Kuarsa Efektif
Kami memilih gelombang inframerah pendek karena gelombang ini mampu menembus kelembapan di permukaan wafer lebih cepat dibandingkan gelombang inframerah panjang. Karena kuarsa sangat murni, Anda tidak perlu khawatir akan adanya ion yang masuk ke sensor MEMS. Selain itu, lapisan kuarsa berfungsi sebagai penghalang yang efektif, sehingga filamen tungsten tetap terlindung dari udara di ruang bersih. Kami menghindari penggunaan kaca murahan, karena kaca tersebut tidak mampu bertahan terhadap tekanan yang tinggi; kaca tersebut akan retak begitu proses pengeringan dimulai.
Efisiensi dalam Ruang Terbatas
Lampu-lampu ini mampu menghasilkan banyak daya per inci persegi. Keuntungannya adalah Anda dapat membuat ukuran pemanas menjadi lebih kecil, namun tetap mendapatkan panas yang cukup untuk menguapkan cairan secara instan. Lampu-lampu ini juga cocok digunakan bersama kontroler PID yang sudah ada, sehingga suhu dapat dikontrol dengan tepat.
Namun, perlu diperhatikan bahwa karena intensitas panasnya yang sangat tinggi, permukaan lampu akan menjadi sangat panas dengan cepat. Jika kotak penyangga lampu tidak dirancang untuk menahan aliran udara panas, maka bodi komponen bisa rusak atau sensor overheating akan terus berbunyi. Perhatikan hal ini saat proses pemasangan.
Pengeringan yang Efektif
Lampu-lampu ini dirancang untuk menggantikan sistem pengolahan wafer otomatis. Lampu ini mampu memanaskan seluruh permukaan wafer secara merata, sehingga tidak ada “titik dingin” atau sisa-sisa cairan di permukaan wafer. Yang lebih baik lagi, tidak ada udara panas yang bertiup di atas permukaan wafer. Anda tidak perlu khawatir akan adanya partikel-partikel yang terbang akibat turbulensi udara. Dengan demikian, permukaan wafer akan tetap kering dan bersih.