IRを利用してファブの加熱をコントロールする
正直に言うと、昔ながらの加熱方法ではもはや十分ではありません。現代の半導体や電子機器の製造工場で働くなら、勘に頼るわけにはいきません。データが必要です。
だからこそ、私たちは赤外線（IR）システムを活用します。クリーンルーム内の空気全体を温めるのではなく、IRは直接対象物を温めます。これは直接的な放射熱です。簡単です。
「スマート」に加熱する
もしデジタル化された生産ラインを目指しているのであれば、加熱システムもそれに合わせて動かす必要があります。私たちのIRシステムは、変調された電力供給を使ってPLCコントローラーと直接通信します。
これは具体的にどういう意味でしょうか？つまり、センサーからの情報に基づいて、リアルタイムで加熱出力を調整できるということです。数分ではなく、秒単位で温度を上げ下げできます。この速さによって、処理時間が大幅に短縮されます。
トレードオフ（みんなが忘れがちな点）
しかし、ウェハの加工や硬化のために必要な熱量を得るには、高出力のエミッタを使用しなければなりません。確かに強力ですが、同時に多くの熱が発生します。
そのため、筐体や冷却装置がその高い温度に耐えられるように設計されている必要があります。冷却装置が不十分だと、温度が不安定になります。そして、その範囲を超えてしまうと、多くの資材が無駄になってしまいます。
なぜこれがクリーンルームに適しているのか
対流式のヒーターは空気を動かします。クリーンルームでは、空気が動くことは避けたいことです。
一方、IRはすべてを静かに保ちます。石英やセラミック製のエミッタを使用するのは、ガスが放出されたり粒子が飛び散ったりしないからです。本当にクリーンです。
さらに、これらのシステムはSCADAネットワークに直接接続できます。そうすれば、加熱装置はもはや「ブラックボックス」ではなく、データとして扱えます。
もし製品に問題があれば、なぜか悩む必要はありません。温度の記録を見て、どこで温度が下がったかを特定し、修正すればいいのです。とても簡単です。