리토 플로어에서는 폴리이미드를 가열하는 과정에서 열 에너지가 선의 굵기를 조절하는 데 사용됩니다. 약간의 온도 변동이 발생하면 웨이퍼의 측벽이 비뚤어집니다. 과열된 부분은 웨이퍼 위에 있는 입자의 수로 나타납니다. 따라서 이 가열 과정은 반복 가능하고, 깨끗하며, 빠르게 진행되어야 합니다—모든 생산 과정에서 마찬가지입니다.
핵심적인 요소들 우리는 폴리이미드를 가열하는 과정에 적외선 램프를 사용했습니다. 이 램프의 NIR 반응은 폴리이미드의 흡수 특성과 일치합니다. 에너지는 필요한 곳에만 전달되므로 기판이 손상되지 않습니다. 이를 통해 웨이퍼 전체의 온도가 ±0.1°C 이내로 유지되며, 장시간 동안 안정적인 온도를 유지할 수 있습니다. 이 램프는 클래스 1–100 등급의 청정실 환경에서 사용할 수 있도록 설계되었으며, 입자 생성을 최소화하기 위해 적절한 재료와 밀봉 구조가 사용됩니다. 실제 생산 과정에서는 오차가 줄어들고, 선의 균일성이 높아지며, 예측 가능한 수율을 얻을 수 있습니다.
왜 이 방식이 적합한가? 폴리이미드를 부드럽게 가열하는 과정과 단단하게 가열하는 과정은 포토레지스트 처리 과정의 중간 단계에 위치합니다. 우리의 램프는 기존의 가열 시스템에 쉽게 통합될 수 있으며, SEMI 표준에 부합합니다. 동일한 처리 과정을 유지하면서도, 가열 속도가 빨라지고, 한 번의 처리당 에너지 소비가 줄어들며, 램프의 수명도 길어집니다. 5,000시간 이상의 안정적인 작동 성능을 바탕으로 국제적인 기준을 충족합니다. 이는 라인 엔지니어들에게 재작업이 줄어들고, 유지보수가 간편해지며, 반복적인 생산 과정에서도 일관된 결과를 얻을 수 있다는 의미입니다.
실용적인 세부 사항 장착은 간단하지만, 정밀한 정렬이 필요합니다. 균일성을 유지하기 위해 램프는 특정한 위치에 정확하게 배치되어야 합니다. 가열 프로파일을 설정하고 온도 분포를 확인하기 위해 짧은 테스트 주기가 필요합니다. 일단 설정되면, 이를 제어 가능한 변수로 간주해야 합니다. 그러면 열적 반복성을 신뢰할 수 있는 요소로 여길 수 있습니다.