Menjaga Kebersihan Wafer MEMS Semasa Proses Pengeringan
Jika anda bekerja di bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa menyakitkannya apabila ada serpihan kecil dari pemanas yang tercampur dengan wafer tersebut. Keseluruhan wafer tersebut akan menjadi tidak berguna. Ini sangat menjengkelkan. Itulah sebabnya kami menggunakan lampu inframerah berbahan kuarsa yang berkualiti tinggi.
Kebanyakan unsur pemanas akan mengeluarkan gas atau mula terhakis seiring masa berlalu. Namun, tiub kuarsa ini tidak berbuat begitu. Ia memberikan haba yang cukup cepat untuk mengeringkan wafer, tanpa meninggalkan sisa logam di permukaan wafer tersebut.
Mengapa Kuarsa Berkesan
Kami memilih sinar inframerah gelombang pendek kerana ia dapat menembusi kelembapan pada permukaan wafer dengan lebih cepat berbanding sinar inframerah gelombang panjang. Kerana kuarsa sangat murni, anda tidak perlu risau tentang ion-ion yang boleh merosakkan sensor MEMS. Selain itu, lapisan kuarsa berfungsi sebagai penghalang yang baik, sehingga filamen tungsten tidak terdedah kepada udara di dalam bilik bersih. Kami mengelakkan penggunaan kaca murah, kerana kaca tersebut tidak dapat bertahan terhadap tekanan yang tinggi – ia akan retak sebaik sahaja digunakan dalam proses pengeringan yang cepat.
Kuasa Pemanasan yang Tinggi dalam Ruang yang Kecil
Lampu ini menghasilkan banyak tenaga pemanasan per inci persegi. Kelebihannya ialah anda boleh menggunakan ruang yang lebih kecil untuk pemanas tersebut, sambil tetap mendapatkan haba yang cukup untuk menguapkan cecair dengan cepat. Lampu ini juga sesuai digunakan bersama pengawal suhu PID, supaya suhu dapat dikawal dengan tepat.
Namun, perlu diingat bahawa kerana kepadatan haba yang tinggi, permukaan lampu akan menjadi sangat panas. Jika kotak lampu tersebut tidak dibuat untuk menahan aliran udara panas yang tinggi, ia boleh menyebabkan kerosakan pada komponen perangkat tersebut. Perkara ini perlu diberi perhatian semasa proses pemasangan.
Pengeringan yang Efektif
Lampu ini direka untuk menggantikan sistem pengendalian wafer automatik. Ia dapat memanaskan seluruh permukaan wafer secara merata, tanpa adanya “kawasan sejuk” atau kesan air atau sisa lain pada permukaan wafer.
Yang paling penting, tiada udara panas yang bertiup di atas permukaan wafer. Anda tidak perlu risau tentang gangguan udara yang boleh menyebabkan partikel-partikel terbang di permukaan wafer. Permukaan wafer akan tetap kering dan bersih.