Masa yang diperlukan untuk proses pemotongan: Mengapa IR lebih baik daripada udara panas dalam keadaan vakum
Jika anda bekerja dalam bidang pemprosesan semikonduktor, anda pasti tahu bahawa masalah utama ialah kos masa yang diperlukan untuk melaksanakan proses tersebut. Kebanyakan orang menggunakan kaedah udara panas untuk memanaskan permukaan wafer. Walaupun cara ini berkesan, namun ia sangat lambat. Anda perlu memanaskan udara terlebih dahulu, dan kemudian berharap udara tersebut akan memanaskan wafer. Namun, dalam keadaan vakum, tidak ada udara sama sekali. Ini bermakna tiada medium yang boleh digunakan untuk memindahkan haba.
Di sinilah pemanas inframerah yang sesuai untuk digunakan dalam keadaan vakum muncul. Berbeza dengan kaedah udara panas, pemanas inframerah menghantar tenaga secara langsung ke atas permukaan wafer. Ini menjadikan prosesnya lebih cepat.
Tidak perlu menunggu ketuhar panas
Sistem udara panas mempunyai “inersia termal” yang tinggi. Ini bermakna sistem tersebut berfungsi dengan perlahan. Anda perlu memanaskan dinding ruang serta keseluruhan udara di dalamnya sebelum permukaan wafer dapat dipanaskan. Ini merupakan halangan besar dalam proses pemprosesan.
Lampu inframerah pula berbeza. Ia boleh mencapai suhu yang diinginkan dalam masa beberapa saat sahaja. Oleh kerana pemindahan haba berlaku secara langsung, anda tidak perlu menunggu waktu yang lama untuk proses pemanasan atau penyejukan. Proses pemprosesan menjadi lebih cepat. Ini sangat penting untuk kelancaran kerja anda.
Kelemahan penggunaan vakum
Namun, bukan semua pemanas sesuai untuk digunakan dalam keadaan vakum. Pemanas biasa cenderung untuk melepaskan gas. Dalam keadaan vakum yang tinggi, sebarang bahan pelincir atau bahan organik pada pemanas boleh merosakkan wafer. Ini merupakan masalah yang perlu dielakkan.
Untuk mengelakkan perkara ini, kita menggunakan kemasan kuarsa dan elektrod yang direka khas untuk keadaan vakum. Ini membantu mengelakkan kebocoran dan kotoran.
Satu perkara yang perlu diingat ialah kepadatan tenaga. Lampu inframerah berkuasa tinggi menghasilkan banyak haba dalam ruang yang kecil. Jika sistem penyejukan ruang tersebut tidak cukup efektif, haba yang tidak sampai ke wafer boleh merosakkan komponen-komponen lain. Periksa spesifikasi lampu tersebut sebelum menggunakannya.
Meningkatkan kelajuan pemprosesan wafer
Kelebihan utama penggunaan pemanas inframerah ialah kemampuan untuk mengawal suhu dengan tepat. Dengan menggunakan pemanas inframerah, anda boleh menghasilkan impuls haba yang cepat, melakukan proses pemprosesan, dan segera menyejukkan wafer tersebut. Anda tidak perlu menunggu ketuhar panas.
Bagi para jurutera, ini bermakna mereka dapat memproses lebih banyak wafer setiap jam. Anda dapat menggantikan alat peniup udara biasa dengan alat kawalan kuasa yang tepat, serta lampu yang sesuai untuk keadaan vakum. Dengan cara ini, kadar pemprosesan wafer akan meningkat secara drastik.