Mengapa kita meninggalkan oven konvensional demi penggunaan lampu inframerah berkekuatan tinggi
Selama ini, pabrik-pabrik semikonduktor masih mengandalkan oven konvensional untuk proses pengeringan. Namun sejujurnya, oven tersebut sudah ketinggalan zaman. Kini, ada tren yang kuat menuju penggunaan lampu inframerah berkekuatan tinggi. Hal ini bukan hanya soal pencapaian target energi “hijau” atau kepatuhan terhadap aturan penggunaan bahan bebas timbal saja—tetapi juga soal logika sederhana.
Bayangkan saja. Sistem pengeringan berbasis udara membutuhkan banyak energi untuk menghangatkan seluruh ruangan agar wafer bisa kering. Itu merupakan pemborosan energi. Lampu UHP berbeda. Lampu ini mengirimkan energi langsung ke permukaan substrat melalui radiasi elektromagnetik. Tidak ada perantara sama sekali.
Fisikanya sebenarnya cukup sederhana.
Ketika menggunakan alat pengering tradisional, kita membuang-buang banyak energi untuk menghangatkan dinding-dinding bagian dalam mesin. Itu sama saja dengan mencoba menghangatkan sebuah rumah dengan cara menghangatkan jalan masuknya. Dengan lampu UHP, kita dapat menargetkan band penyerapan energi pada lapisan kimia atau fotoresist tersebut. Cukup hidupkan tombolnya, dan proses pengeringan pun segera terjadi. Tidak perlu menunggu mesin “panas”. Dengan demikian, penggunaan listrik per wafer menjadi lebih sedikit, sehingga semua pihak yang terlibat merasa senang.
Menjaga kebersihan
Di ruang bersih, “outgassing” merupakan masalah besar. Satu partikel kecil saja di tempat yang salah sudah bisa menimbulkan masalah. Itulah mengapa kita menggunakan kwarsa sintetis berkualitas tinggi serta filamen khusus dalam pembuatan lampu ini. Dengan demikian, tidak akan ada partikel apa pun yang terlepas. Dan ketika kita berbicara tentang “bahan bebas timbal”, kita tidak hanya berbicara tentang solder yang digunakan, tetapi juga seluruh prosesnya. Dengan menggunakan inframerah, kita tidak perlu menggunakan bahan pengering yang mengandung pelarut atau sistem udara yang dapat membawa polutan. Hasilnya adalah permukaan yang bersih dan kering.
Kekurangannya…
Masalahnya adalah, lampu ini memiliki daya yang sangat besar dalam ruang yang kecil. Hal ini bagus untuk mempercepat proses pengeringan wafer, tetapi hal ini juga memberikan tekanan besar pada sistem pendinginan. Jika Anda menggunakan lampu UHP berdaya tinggi tanpa meningkatkan kemampuan sistem pendinginan, maka wafer akan overheat, sehingga permukaannya menjadi bengkok. Anda perlu menemukan keseimbangan antara daya lampu dan kapasitas termal substrat.
Berita baiknya? Kami merancang lampu ini agar dapat dipasang langsung ke sistem vakum atau sistem udara yang sudah ada. Dengan demikian, Anda tidak perlu menggunakan kipas dan pemanas yang menghabiskan banyak energi. Dengan begitu, dampak negatif terhadap lingkungan pun berkurang.