리소그래피 공정에서는 포토레지스트를 가열하는 과정의 반복성이 단순히 중요한 요소가 아니라, 필수적인 공정 조건입니다. 소프트 베이크나 하드 베이크 과정에서 2°C만큼의 온도 변동이 생겨도 치명적인 결과를 초래할 수 있습니다. 또한, 단 한 개의 이물질만으로도 전체 제품군이 망가질 수 있습니다. 저희는 이러한 문제들을 해결하기 위해 오존이 없는 적외선 램프를 개발했습니다.
기술적으로 중요한 점들 이 램프들은 오존이 없는 근적외선(NIR)을 사용하여 작동하기 때문에, 촉매 변환기나 그와 관련된 유지보수 문제를 해결할 수 있습니다. 조명되는 영역 내에서는 웨이퍼 표면의 온도가 ±0.1°C 이내로 유지되며, 연속적인 작동 시에도 온도 변동은 ±0.2°C 이내로 남습니다.
이 시스템은 클린룸 등급 1–100에 적합하도록 설계되었습니다. 오염물질이 적은 재료와 밀폐된 광경로, 그리고 입자가 웨이퍼에 닿지 않도록 하는 공기 흐름 구조 덕분에 안정적인 성능을 보장합니다. 5,000시간 이상 사용해도 출력의 안정성은 1% 미만으로 유지되므로, 지속적인 재조정 없이 24/7 공정을 진행할 수 있습니다.
생산 현장에서의 장점 포토레지스트 처리 공정은 열관리에 따라 성패가 결정됩니다. 저희의 적외선 램프는 웨이퍼를 빠르게 가열할 뿐만 아니라, 엄격한 통제를 통해 각 로트별로 일관된 온도를 유지합니다. 그 결과, 웨이퍼의 온도 균일성이 높아지고, 재작업이 줄어들며, 예측 가능한 수율을 얻을 수 있습니다.
램프가 설정된 온도에 빠르게 도달하고 그 온도를 유지하기 때문에 에너지 소비도 줄어듭니다. 긴 서비스 주기 덕분에 예비 부품과 유지보수 비용도 줄어듭니다. 첨단 공정에서는 오존이 없고, 입자 발생이 적으며, 정확한 온도 제어가 가능하기 때문에 웨이퍼와 장비 환경을 보호할 수 있습니다.
계획해야 할 사항들 이 램프들은 표준 반도체 장비 인터페이스와 호환되지만, 열 처리 과정도 중요합니다. 설치 시에는 장비의 열 방출과 공기 흐름을 고려해야 합니다. 만약 냉각 설계가 적절하지 않으면 장기적인 안정성이 저하될 수 있습니다.
먼저 짧은 시간 동안 테스트를 해서 설정된 온도가 포토레지스트와 스테이지의 움직임에 맞는지 확인해야 합니다. 일단 정렬이 완료되면 공정이 예측 가능해집니다.