Dalam proses litografi, ketepatan penggunaan bahan photoresist semasa proses pemanasan bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan aspek penting dalam proses tersebut. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanasan akan menjejaskan kawalan dimensi yang penting pada wafer tersebut. Selain itu, kehadiran zarah-zarah tertentu juga boleh merosakkan keseluruhan kumpulan wafer yang diproses. Kami telah mencipta lampu inframerah tanpa ozon untuk mengatasi masalah-masalah ini.
Apa yang penting dari segi teknikal
Lampu-lampu ini beroperasi menggunakan cahaya inframerah, tanpa penggunaan ozon. Dengan cara ini, kita tidak perlu menggunakan konverter katalitik dan mengelakkan masalah penyelenggaraan yang berkaitan dengannya. Kestabilan suhu pada permukaan wafer adalah sekitar ±0.1°C, manakala ketepatan proses antara setiap pengeluaran pula adalah sekitar ±0.2°C.
Sistem ini direka untuk digunakan dalam bilik bersih tahap 1–100: bahan-bahan yang digunakan mempunyai pelepasan gas yang rendah, laluan cahaya yang tertutup rapat, serta sistem aliran udara yang dapat menghalang zarah-zarah daripada sampai ke wafer. Kestabilan outputnya adalah kurang dari 1% dalam masa 5,000 jam atau lebih – ini bermakna ia dapat berfungsi secara berterusan tanpa memerlukan penyesuaian berterusan.
Mengapa ia sesuai untuk digunakan dalam pengeluaran
Proses pemprosesan photoresist sangat bergantung pada faktor termal. Lampu inframerah kami dapat memanaskan wafer dengan cepat, sambil memastikan kawalan suhu yang tepat dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain. Ini membantu meningkatkan ketepatan dimensi wafer, mengurangkan keperluan untuk memproses semula wafer, dan membolehkan kita merancang hasil pengeluaran dengan lebih baik.
Oleh kerana lampu ini dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat dan mengekalkannya tanpa berlaku penyimpangan, penggunaan tenaga dapat dikurangkan. Jangka hayat lampu yang panjang juga membantu mengurangkan keperluan stok alat ganti dan tenaga kerja untuk penyelenggaraan. Pada nod-nod pengeluaran yang canggih, gabungan penggunaan ozon yang sifar, penghasilan zarah yang minimum, serta kawalan suhu yang tepat dapat melindungi wafer serta persekitaran alat pengeluaran.
Apa yang perlu anda pertimbangkan
Lampu-lampu ini boleh disambungkan kepada antaramuka peralatan semikonduktor biasa. Namun, laluan pendamaian haba perlu diambil kira semasa pemasangan. Jika reka bentuk penyejukan tidak betul, stabilitas jangka panjang akan terjejas.
Lakukan ujian pendek untuk memastikan suhu yang ditetapkan sesuai dengan spesifikasi bahan photoresist dan profil pergerakan wafer. Setelah penyesuaian selesai, proses pengeluaran akan menjadi lebih efisien dan dapat diramalkan.