Mantendo suas wafers MEMS impecáveis durante o processo de secagem
Se você trabalha em uma sala limpa de classe 100, sabe bem o que significa ter que lidar com um problema como esse: um pequeno pedaço de resíduo vindo de um elemento de aquecimento pode estragar todo o lote de wafers. É frustrante. É por isso que optamos por lâmpadas de quartzo sintético de alta pureza.
A maioria dos elementos de aquecimento libera gases ou começa a se desintegrar com o tempo. Esses tubos de quartzo não fazem isso. Eles fornecem um calor rápido suficiente para secar as wafers instantaneamente, sem deixar resíduos metálicos para trás.
Por que o quartzo funciona tão bem?
Optamos pelo infravermelho de onda curta por um motivo: ele consegue eliminar a umidade na superfície das wafers muito mais rapidamente do que o calor de onda longa.
Como o quartzo é extremamente puro, não há risco de íons migrarem para os sensores MEMS. Além disso, a estrutura de quartzo funciona como uma vedação eficaz, mantendo o filamento de tungstênio longe do ar da sala limpa. Evitamos o uso de vidro barato, pois ele não consegue suportar as altas temperaturas – ele acabaria se quebrando assim que começasse o ciclo de aquecimento rápido.
Alta eficiência em um espaço pequeno
Essas lâmpadas produzem muita potência por polegada. A vantagem é que você pode reduzir o tamanho do elemento de aquecimento, mantendo ao mesmo tempo calor suficiente para evaporar líquidos instantaneamente. Elas também funcionam bem com os controladores PID existentes, garantindo que a temperatura fique exatamente onde você deseja.
Uma observação importante: como a densidade de calor é alta, a superfície da lâmpada fica muito quente rapidamente. Se o gabinete não for projetado para suportar esse tipo de calor, o chassi pode se deformar ou os sensores de superaquecimento podem acionar constantemente. É algo que deve ser levado em consideração durante a instalação.
Secagem eficaz na prática
Criamos essas lâmpadas para substituir os sistemas automatizados de manuseio de wafers. Elas aquecem toda a área da wafer de maneira uniforme, eliminando assim “pontos frios” e marcas ou resíduos indesejados.
E o melhor de tudo: não há ar quente forçado sobre a wafer. Você não precisa lidar com as turbulências que geralmente causam a dispersão de partículas nas bordas da wafer. Você obtém uma superfície seca e uma wafer realmente limpa.