Hãy ngừng lãng phí nhiệt lượng trên các bức tường của thiết bị
Việc làm nóng tấm wafer silic đòi hỏi một lượng năng lượng rất lớn. Nhưng vấn đề là: hầu hết các bóng đèn hồng ngoại chỉ phát ra nhiệt lượng vào mọi hướng. Đó thực sự là sự lãng phí. Khi ánh sáng hồng ngoại được phát ra theo 360 độ, các bức tường bên trong máy móc sẽ hấp thụ toàn bộ năng lượng dư thừa này. Kết quả là các bức tường trở nên rất nóng, điều này gây khó khăn cho những người vận hành máy. Hệ thống làm mát cũng phải hoạt động hết công suất để tránh việc máy bị hư hỏng.
Tìm cách đưa nhiệt lượng đến đúng nơi cần thiết
Chúng tôi đã tìm ra cách tốt hơn. Thay vì sử dụng ống thủy tinh thông thường để phát nhiệt ra mọi hướng, chúng tôi sử dụng các bộ phản xạ và bộ phát ánh sáng được thiết kế riêng. Có thể coi đó như việc thay thế bóng đèn thông thường bằng đèn pin. Chúng tôi tập trung ánh sáng hồng ngoại trực tiếp lên bề mặt wafer. Bằng cách này, chúng tôi ngăn chặn việc nhiệt lượng “lạc” vào các bức tường của máy móc. Kết quả là wafer nhận được đúng lượng nhiệt cần thiết, trong khi các bức tường vẫn giữ được độ mát.
Những yếu tố kỹ thuật cần lưu ý
Để phương pháp này hoạt động hiệu quả, chúng tôi phải chọn kỹ bước sóng phù hợp. Chúng tôi chọn bước sóng hồng ngoại ngắn vì nó có thể xâm nhập sâu vào bề mặt wafer, thay vì chỉ phản chiếu trên bề mặt như bước sóng dài. Tuy nhiên, việc tập trung nhiệt lượng vào một diện tích nhỏ cũng đòi hỏi sự cân bằng chính xác giữa góc phát sóng và tốc độ tăng nhiệt. Nếu không, có thể gây ra những điểm nóng nguy hiểm. Bạn cần tìm được điểm cân bằng phù hợp để tránh làm hỏng vật liệu.
Tại sao điều này lại quan trọng?
Khi chúng ta ngừng chống lại nhiệt lượng từ các bức tường của máy móc, mọi thứ sẽ trở nên dễ dàng hơn. Bạn có thể tăng tốc độ sản xuất mà không cần phải mua những chiếc quạt làm mát lớn hay hệ thống làm mát phức tạp. Hệ thống quản lý nhiệt cũng trở nên đơn giản hơn. Hơn nữa, điều này còn giúp tiết kiệm chi phí. Môi trường làm việc cũng an toàn hơn. Thật là hợp lý.