装置の壁面で熱が無駄になるのを止めましょう シリコンウェーハを加熱するには、莫大なエネルギーが必要です。しかし問題は、ほとんどの赤外線ランプがその熱をあらゆる方向に放出してしまうことです。これは明らかな無駄遣いです。 ランプから360度に光が放出されると、高価な機器の内壁がその余分なエネルギーを吸...

時間の無駄をやめよう：ウェーハの加熱において、なぜ赤外線加熱がホットエアより優れているのか 待つという時間のロスについて話しましょう。 半導体製造では、長年にわたってホットエアを利用してきました。しかし問題は、ホットエアの速度が遅いことです。空気という媒体が必要であり、まずチャンバー全体を加熱し、...

ヒーター要素によってウェーハが損傷するのを防ぎましょう。 クラス100のクリーンルームを運営している方なら、その苦労はご存知でしょう。見えないほど微小な汚れがウェーハに付着するだけで、一括して廃棄せざるを得なくなります。これは非常に厄介で、コストもかさみます。通常、この問題はヒーター要素からのガス...

乾燥処理中にMEMSウェーハを常に清潔に保つために クラス100のクリーンルームで作業している人なら、その悩みはよくわかるでしょう。ヒーターから出るわずかな破片だけで、大量のウェーハが使えなくなってしまいます。本当にイライラしますよね。だからこそ、私たちは高純度の合成石英製のIRランプを使用してい...

IR加熱を活用して最適なレイアウトを実現する もし、インダストリー4.0向けのスマートなファブを構築しようとしているのであれば、従来の加熱方法を使うのはやめるべきです。そうした古いシステムではもはや十分ではありません。 最近では、高効率な赤外線（IR）加熱装置が主流になっています。その理由は、デジ...

治療用の熱があちこちに漏れ出さないようにしましょう IRランプの問題点は、熱があらゆる方向に放出されてしまうことです。半導体の硬化処理用チャンバーでは、ウェーハに当たらないエネルギーはすべて無駄になってしまいます。 しかし、それだけではありません。その余分な熱は、装置の内壁に悪影響を与えます。もし...

卸売用ウェーハ乾燥ランプ：そのパワーの背後にある真実 半導体ウェーハを迅速に乾燥させる方法について話しましょう。必要なのは、高品質な工業用加熱装置です。大手メーカー製品と同等の性能が求められますが、高額なコストは避けたいものです。まさにそのために、私たちはこの赤外線ランプを開発しました。手軽に取り...

リソグラフィー工程において、ポリイミドの硬化処理は単なる加熱工程に過ぎません。実際には、この温度制御がデバイスの信頼性を決定づける重要な要素です。ウェーハの温度が1℃変動するだけで、応力が変化し、配線にひびが入り、1週間かけて行った作業が台無しになってしまいます。したがって、温度を単なる後付けの要...

リソグラフィーの工程では、焼成温度がわずか半度でも変動すると、重要な寸法の制御が失われてしまいます。そうなると、ウェーハを廃棄せざるを得なくなります。 私たちは、このような温度変動を未然に防ぐために、ウェーハ表面の表面張力を測定するヒーターを開発しました。これは、フォトレジストの化学反応、熱的条件...

ライン上では、フォトボルタイクシリコンウェハのスループットは信頼できる熱制御にかかっています。ソフトベイク中に温度が数度ずれたり、洗浄後の乾燥が不均一になると、歩留まりに直結します。当社のフォトボルタイクシリコンウェハ用ヒーターは、シフトごとにこれらの工程を規定範囲内に維持するよう設計されています...

ファブフロアでは、ソフトベークのひとつのトラブルがリソグラフィのシフト全体を台無しにすることがある。乾燥ランプの性能が低下すると、フォトレジストのプロファイルがずれ、歩留まりに影響を及ぼす。このウェハ乾燥用ランプバルブはそのリスクを低減するために設計されており、熱制御を仕様内に維持しつつ、コストを...