장비의 벽면에 열이 낭비되는 것을 막아야 합니다. 실리콘 웨이퍼를 가열하는 데에는 엄청난 양의 에너지가 필요합니다. 하지만 문제는, 대부분의 적외선 램프들이 그 열을 사방으로 방출한다는 점입니다. 이는 명백한 낭비입니다. 램프가 360도로 열을 방출하게 되면, 값비싼...

시간 낭비를 멈추세요: 왜 웨이퍼 가열에는 적외선 방식이 핫에어 방식보다 우수한가요? 기다리는 시간이라는 문제에 대해 이야기해보겠습니다. 반도체 제조 공정에서는 수년 동안 핫에어 순환 방식을 사용해왔습니다. 하지만 문제는 핫에어의 속도가 너무 느리다는 것입니다. 핫에...

난방 요소가 웨이퍼를 망치는 것을 막아야 합니다. 클래스 100 수준의 청정실을 운영한다면, 그 고통스러운 상황을 잘 알고 있을 것입니다. 보이지도 않는 아주 작은 먼지 조각이 웨이퍼 위에 떨어지기만 해도, 전체 제품이 폐기됩니다. 이는 매우 짜증나는 상황이며, 비용...

건조 과정에서 MEMS 웨이퍼를 깨끗하게 유지하는 방법 클래스 100급 청정실에서 작업할 때면, 히터에서 나오는 아주 작은 이물질만으로도 전체 웨이퍼가 버려지는 상황이 발생합니다. 정말 답답한 일이죠. 그래서 우리는 고순도의 합성 석영 IR 램프를 사용합니다. 대부분...

IR 가열을 활용하여 이상적인 공정 환경을 만드는 방법 Industry 4.0을 위한 스마트 팩토리를 구축한다면, 더 이상 기존의 낡은 가열 방식을 사용해서는 안 됩니다. 그런 구식 시스템들은 더 이상 효과적이지 않습니다. 최근에는 고효율의 적외선(IR) 시스템을 사...

더 이상 열이 사방으로 새어 나가도록 내버려두지 마세요 IR 램프의 문제점은, 열이 모든 방향으로 방출된다는 것입니다. 반도체 치료용 챔버에서는, 웨이퍼에 닿지 않는 에너지는 결국 낭비될 뿐입니다. 하지만 그보다 더 심각한 문제는, 그 낭비된 열이 장비의 내부 벽면을...

반도체 제조 현장에서 포토레지스트 베이크 온도가 0.3°C만 변해도 전체 로트가 불량 처리될 수 있는 라인 폭 편차로 이어진다. 대량 웨이퍼 생산에서는 열 제어가 선택 사항이 아니라 수율 확보와 불량 발생을 가르는 경계선이다. 핵심 사항 우리는 반도체 공정 창에 맞는...

300mm 라인에서 포토레지스트 베이크 중 0.5°C의 온도 편차는 수율 저하로 직결됩니다. 라인폭 제어가 빠르게 흔들리게 되죠. 우리는 이 변동성을 제거하고 설비가 24시간 7일 가동하더라도 지속 운전할 수 있는 웨이퍼 드라이어 벌브를 설계했습니다. 기술적으로 중요...

라인에서 태양광 웨이퍼의 처리량은 신뢰할 수 있는 열 제어에 달려 있습니다. 소프트 베이크 중 온도가 몇 도만 벗어나거나 세정 후 건조가 고르지 못하면 수율이 떨어집니다. 당사는 이러한 공정을 교대 근무 내내 일정 범위 내에서 유지할 수 있도록 태양광 실리콘 웨이퍼...

Fab 라인에서 소프트 베이크 과정 중 한 번의 문제로 전체 리소그래피 교대 작업이 무산될 수 있다. 건조 램프 성능이 저하되면 포토레지스트 프로파일이 변동하고 수율이 감소한다. 이러한 위험을 줄이기 위해 이 웨이퍼 건조 램프 전구를 설계했으며, 예산을 초과하지 않고...